半導(dǎo)體解決方案

Delta-X化合物半導(dǎo)體的X射線量測(cè)方案
  • 產(chǎn)品品牌: 布魯克 Bruker
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地: 德國(guó)
  • 應(yīng)用領(lǐng)域: 在化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，用于外延層薄膜質(zhì)量監(jiān)控，如精確測(cè)定厚度、成分、應(yīng)變等關(guān)鍵參數(shù)；服務(wù)于材料科學(xué)研究，助力探究新型化合物半導(dǎo)體材料微觀結(jié)構(gòu)；在工藝開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)質(zhì)量控制中，快速檢測(cè)工藝偏差，保障產(chǎn)品質(zhì)量 。
  • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介: Delta-X 是新一代化合物半導(dǎo)體 X 射線量測(cè)方案。其光源臺(tái)與探測(cè)臺(tái)光學(xué)元件能全自動(dòng)化調(diào)控，可在標(biāo)準(zhǔn) XRD、高分辨率 XRD 及 X 射線反射率模式間自動(dòng)切換，無(wú)需人工重新配置。設(shè)備搭載 5 軸歐拉環(huán)支架，能對(duì) 300mm 晶圓進(jìn)行完整 mapping，兼容大小樣品。測(cè)量過(guò)程高度自動(dòng)化，依客戶需求定制程序，并配備專業(yè)軟件精準(zhǔn)分析數(shù)據(jù) 。

Delta-X 是布魯克專為半導(dǎo)體薄膜分析而設(shè)計(jì)的最新一代 X 射線量測(cè)系統(tǒng)，適用于材料研究、工藝開(kāi)發(fā)和質(zhì)量控制等各階段。該系統(tǒng)搭載了全自動(dòng)化光源光學(xué)系統(tǒng)，能夠在無(wú)需人工干預(yù)的情況下，切換標(biāo)準(zhǔn) XRD、高分辨率 XRD（HRXRD）和 X 射線反射模式（XRR）。測(cè)量過(guò)程可以通過(guò)預(yù)設(shè)測(cè)量程序?qū)崿F(xiàn)全自動(dòng)化執(zhí)行，同時(shí)支持在半手動(dòng)模式下進(jìn)行更復(fù)雜的測(cè)量。

  • 系統(tǒng)定位與適用場(chǎng)景：專為半導(dǎo)體薄膜分析設(shè)計(jì)的新一代X射線量測(cè)系統(tǒng)，覆蓋材料研究、工藝開(kāi)發(fā)及質(zhì)量控制全階段。
  • 光學(xué)系統(tǒng)與操作模式：搭載全自動(dòng)化光源光學(xué)系統(tǒng)，可自動(dòng)切換標(biāo)準(zhǔn)XRD、HRXRD、XRR模式，支持全自動(dòng)化測(cè)量與半手動(dòng)復(fù)雜測(cè)量。
  • 樣品臺(tái)性能：配備堅(jiān)固的五軸歐拉樣品臺(tái)，兼容大尺寸晶圓與小尺寸樣品，且小樣品可自動(dòng)排隊(duì)執(zhí)行多類型檢測(cè)。
  • 分析功能范圍：支持高分辨率搖擺曲線、倒易空間成像、XRR、GIXRD、相位鑒定、殘余應(yīng)力評(píng)估、薄膜織構(gòu)與晶粒尺寸分析等多類功能。
  • 數(shù)據(jù)分析能力：搭載JV-RADS、JV-REFS等專業(yè)軟件套組，提供專家級(jí)數(shù)據(jù)呈現(xiàn)、解讀及離線分析功能（如組分、厚度、弛豫度計(jì)算等）。